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第420章 虎父无犬子,我家都是妖孽


郝强在看到自家孩子的属性时,不禁感到一丝担忧。

表现得过于优秀,人生缺乏挫折,并不一定是件好事。

他更希望两个孩子能够像普通人一样正常成长,等到懂事后再展现出他们的天赋,这样或许更为理想,而不是让他们从小就显得异常出众,容易因为缺乏引导而叛逆。

经过深思熟虑,郝强决定优先提升孩子的体质。

他明白,只有身体健康,才有未来。

至于其他属性,暂时维持现状也足够了。

在接下来的十年里,郝强预计还能获得30点自由属性点,而孩子将获得15点自由属性点,这样就能将思维力提升到25。

至于达到26点,四维属性最低要求20,难度确实不小。

或许,在有生之年还有可能实现。

在给孩子合理分配好这些属性点后,郝强对他们的未来充满了希望。

【第一代:郝雨萱】

【记忆力:19(潜力)】

【思维力:21(潜力)】

【颜值:22(潜力)】

【体质:14(潜力)】

【自由属性点:1】

……

【第一代:郝子墨】

【记忆力:18(潜力)】

【思维力:22(潜力)】

【颜值:19(潜力)】

【体质:18(潜力)】

【自由属性点:0】

……

两个孩子的记忆力属性均达到了18及以上,已然属于天才水平;

而他们的思维力更是达到了21及以上,堪称超级天才。

如果能够达到24及以上,那就真的是人类的妖孽级别了。

凭借他们的能力和正常的努力,考上青北大学绝对不是问题。

当然,如果选择躺平,连重点大学都可能无法入围。

此时,秋雨晴已经给两个孩子喂过奶,时间也快到中午十二点钟,准备吃午餐。

郝强离开医院,他的母亲和岳母在吃过午餐后,便来到医院看护孩子和秋雨晴。

两位老人对新生儿的呵护无微不至,脸上荡漾着喜悦,说女儿像妈妈,儿子像爸爸。

其实,孩子刚生下来,根本看不出什么。

倒是那眼神,还真有些像。

下午,

郝强将五百万元转入医院账户,以此奖励所有工作人员。

负责生产的护士和医生每人将获得16.8万元的奖励。

他提出了一个要求:禁止向外界宣传他有孩子的事情。

在未来十年内,他不打算向外界公开自己有孩子的消息,旨在保护孩子的健康成长和隐私。

不过,他也知道完全隐瞒是不可能的,一些熟人和家乡的人总会知道,只要不在媒体上公开就好。

三天后,

郝强的两个孩子终于睁开了眼睛。

这三天里,他们补充了充足的营养,肌肤开始焕发光泽,不再像刚出生时那样皱巴巴的。

唯一让人有些烦躁的是,孩子们时不时就会哭闹。

尤其是哭声一旦变大,秋雨晴便显得愁眉不展,满脸担忧,怕哭伤了嗓子。

郝强也没带过孩子,换尿布都不会,虽然这些工作轮不到他去做。

哄孩子时,还轻哼着“两只老虎跑得快”。

郝强的颜值已经达到22,加持了20%超级歌唱的实力,就算是唱儿歌,也唱得很好听。

在哄小孩这一块,还真比秋雨晴有效率。

秋雨晴还打趣说:“哼,这两个小家伙,有了爸,忘了妈。”

第四天,秋雨晴和孩子都出院,回到香蜜湖别墅居住。

接近二十人的保育团队,负责秋雨晴和两个孩子的健康和饮食,根本不用家人愁这些。

一栋别墅里挤二三十人,郝强觉得别墅小了些,还好有大平层可以安排。

郝府已经开工四个月时间,要投入使用,那得等到2013年去了。

秋雨晴顺产,郝强奖励保育团队每个人66.6666万元,保姆和保镖每个人16.8万元,可把他们乐疯了。

大家的薪酬本来就很高,是同行的两倍以上,工作强度也不高,想不到奖励这么丰厚。

对郝强来说,这都是小钱,同庆喜事,整栋别墅里溢满喜悦。

这段时间,郝强心思全在秋雨晴产事上面,无暇公司事务。

在家里照顾孩子,孩子不是哭就是拉,就算有团队服务,其实还是有点烦的,干脆把心思转到公司事务上。

青龙8124车载芯片,架构设计阶段已经完成,目前开始电路设计。

电路设计可能需要3-6个月时间,周期比较长。

结束电路设计后,随后进行芯片的物理设计,包括布局和布线。

顺利的话,明年年中可以试产;

若不顺,那可能卡到后年去了。

单晶炉在研制当中,也许明年年初就能研制成功。

EBL光刻机的进度较慢,零部件就高达几万件。

当然,不少是标准件和重复件,但也让郝强画图画了整整两个月时间,6月份才结束。

通常来说,极紫外EUV光刻机,包括光源、光学系统、掩模、晶圆台、对准系统、控制系统和冷却系统等主要零部件。

最核心与难制造的零部件,莫过于光学系统了。

EBL光刻机是电子束系统,与传统的光刻技术(如紫外光光刻)不同,电子束光刻机利用电子束直接在光刻胶上进行曝光,因此具有更高的分辨率和灵活性。

EUV的波长为13.5纳米,对准系统要求非常苛刻。

而电子束光刻是基于直接写入的方式,用户可以快速修改图案设计,而无需更换掩模。

它的缺点之一是曝光速度相对较慢,通常不适合大规模生产。

如今,郝强的技术商店解决了量产问题。

EBL光刻机与EUV光刻机,工作原理不一样,许多设备也不一样。

主要包括电子枪、聚焦透镜系统、扫描系统、真空室、晶圆台、光刻胶涂布系统、显影系统、对准系统、控制系统和冷却系统,最核心的是电子枪和聚焦透镜系统。

所以说,老外就算卡零部件,也不知道卡什么。

除了EBL光刻机,刻蚀设备、光刻胶和刻蚀胶(前者相当于画图,后者相当于涂一层蜡,保护图案)、化学气相沉积设备等项目进展也比较慢。

慢倒无所谓,徐徐图之,研发进展无卡阻就行。


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